對(duì)于厚膜折射率的測(cè)量，單色光被直接照射到被測(cè)樣品上，這樣，從薄膜表面反射回來(lái)的光的干涉小值就會(huì)發(fā)生變化，光的入射角也會(huì)發(fā)生變化。在這種技術(shù)中，薄膜厚度是由兩個(gè)干涉小值的角的位置計(jì)算出來(lái)的。對(duì)于這種測(cè)量條件——薄膜具有兩個(gè)或兩個(gè)以上的干擾小值——薄膜厚度必須大于低脫粒率，通常為2微米。樣品夾持機(jī)采用真空從背面支撐樣品，安裝方便簡(jiǎn)單。可測(cè)量薄膜/基底的類型，硅襯底上幾乎任何透明或半透明材料的氧化物、氮化物、介質(zhì)、聚合物或薄膜。可測(cè)量的薄膜/襯底類型：氧化物、氮化物、介電材料、聚合物、或硅襯底上幾乎任何透明或半透明材料的薄膜。

　　

　　一、棱鏡耦合測(cè)試儀的特性：

　　1、薄膜及波導(dǎo)折射率/厚度測(cè)量，包括梯度折射率的測(cè)量；

　　2、體材料折射率的測(cè)量；

　　3、薄膜及體材料的雙折射測(cè)量；

　　4、移動(dòng)光纖測(cè)試波導(dǎo)損耗；

　　5、雙層薄膜測(cè)量（甚至在波長(zhǎng)1310nm或1550nm處有幾個(gè)~?厚度）；

　　6、不相關(guān)的薄膜/基板組合；

　　7、無(wú)需預(yù)先知識(shí)，操作簡(jiǎn)單；

　　8、批量或基板材料的準(zhǔn)確測(cè)量；

　　

　　二、主要應(yīng)用領(lǐng)域：

　　1、光波導(dǎo)器件；

　　2、激光晶體材料；

　　3、聚合物材料；

　　4、顯示技術(shù)材料；

　　5、光/磁存儲(chǔ)材料；

　　6、光學(xué)薄膜。